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Elli-RP (Reflectometer)

DATE 19-09-04 17:23

Spectroscopic Reflectometer

光谱反射仪(SR)系统提供了一个稳定、快速、准确的薄膜厚度值，用于各种薄膜工艺。Ellipso

Technology具有先进独特的m-FFT技术，用于薄膜的准确、快速测量/分析。

◈ 参数(SPECIFICATION)

1.测量常数：膜厚，对波长λ的反射率，折射率，消光系数。

2.波长范围：400~ 950 nm

3.光斑大小：1.0 mm

4.膜厚范围：20 nm ~ 20 μm（取决于膜层）

5.膜层数：多至3层（取决于膜层）

6.测量速度：1 s/点（取决于膜层）

7.重复性：10次测量在±1 Å之内

8.测量距离：120 mm（客户定制）

9.样品尺寸：~ 150mm或客户定制

◈ 应用(APPLICATION)

电介质，半导体，聚合物的厚度

支持正面/反面反射

超薄膜及超厚膜

多种衬底（Silicon, GaAs, Al, Steel, Glass, Al2O3, PC, PET, Polymer以及其他膜层）

半导体材料	Photoresist(光阻材料), Oxides, Nitrides etc.
半导体材料	(Si, SiC, Ge, ZnO, IZO, PR, poly-Si, GaN, GaAs, Si3N4)
显示	ITO, PR, Alq3, CuPc, PVK, PAF, PEDT-PSS, NPB, 玻璃上AF/SiO2
介质	SiO2, TiO2, Ta2O5, ITO, AIN, ZrO2, Si3N4, Ga2O3,湿法氧化材料
聚合物	Dye, NPB, MNA, PVA, TAC, PR, PET
化学物	有机膜层（OLED）&LB薄膜
太阳能电池	SiN, a-Si, poly-Si, SiO2, Al2O3
光学涂层	硬质镀膜，增透膜，滤波器等

◈ 选项(OPTION)

1.自动映射平台（R/θ, 150 mm, 200 mm, 300 mm,客户定制尺寸,2D,3D显示）

2.光谱范围选项（UV: 190 nm ~ 1,050 nm）,（IR：900nm ~ 1,700nm, 900nm~ 2,200nm）

3.在线膜厚监控（多个功能探针，在线，灵活集成系统）